Polishing felt POLYCON

Application

Semiconductor
Substrates:
(silicon, gallium
arsenide, GGG,
lithium niobate,
synthetic sapphires)
Photo masks
Glass for
liquid crystals
Storage discs:
(aluminium and
nickel substrates)
Optics
POLYCON 100 X X X
POLYCON 205P X X X X

POLYCON 100

For completing final polishing

Hardness available: A

Dimensions
Max. width: ca. 138 cm in plain and 96 cm in PS
Thickness: 1.35 mm

POLYCON 205P

Für die Vor- und Endpolitur
POLYCON 205 P zeichnet sich durch eine äußerst gleichmäßige Oberfläche sowie eine ausgezeichnete Standzeit aus. Die Oberfläche besitzt eine Struktur zur optimalen Suspensionsverteilung. Sehr widerstandsfähiges Material im alkalischen Bereich (pH: 13) bei hohen Drücken und Temperaturen.

Verfügbare Härtegrade: A, (B).

Abmessung
Max. Breite: 138 cm in plain, 138 cm in PS.
Dicke: 1,35 mm